由于***溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。***也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，***和熔融氢氧1化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下***去除厚度为10μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，***批发价格，熔融氢氧1化钠大约需要10 s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。
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