氟化镁采用碳酸镁与自产的***为原料，通过对比确定了较优的工艺路线和工艺参数，具体为:碳化条件为控制碳酸镁料浆浓度 3%、搅拌速度300r /min、碳化 12h，碳化率可达到 98% 。合成条件为控制***过量 3%，单晶 氟化镁，采用***打底的投料方式; 料浆沉降 12 小时，氟化镁加工，过滤洗涤、140℃干燥 2h 后再在 550℃下煅烧 1h 即可达到镀膜材料和热压多晶氟化镁原料的要求，该方法同样适用于工业级碳酸镁制备高纯氟化镁生产。
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近年来，氟化镁的应用领域是越来越广泛了，特别是随着紫外及红外波段光电技术的飞速发展，氟化镁在激光元件、OLED发光、集成光学、光纤通讯、钱币防伪等高中端领域的应用日渐增多。随着科研水平、材料制造技术、测试技术等不断的发展，氟化镁将会在更多高中端领域发挥越来越重要的作用。
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氟化镁亦可由制取金属铍和铀的副产中制得。用于金属镁冶炼，南雄氟化镁，陶瓷工业的助熔剂，铝焊接助熔剂及铜的助熔剂，光学透镜膜。高纯品用作光学窗，可透过从紫外到红外的光线。还可用作空间探测的紫外线光学元件。
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