




稳定性好:在镀液溶液中稳定,不易分解;使用温度范围宽,抗杂质能力强,对镍离子含量有广泛的适应能力等; 天津电镀
使用范围宽:使用范围过窄会给镀液维护带来很大困难。一般来说,因操作不当,误加1倍量光亮剂不应出现低电流区发黑或漏镀现象;
低区走位好:即使是形状复杂的镀件,仍可在凹洼处镀上合格镍层,且没有明显色差为较好;整平性能好,出光快;消耗量少,能降低生产成本;镀层应力小,延展性能好。

蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。

