等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、***封装、功率半导体等领域可提供***装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。
光刻机的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，这种胶状物，只能被光腐蚀，而不能被化学物质腐蚀，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，用光把不需要的地方腐蚀掉，用光刻技术制作出自己需要的图形。蚀刻机被用来在光刻机“复印”到晶圆的电路轮廓上进行雕刻，蚀刻出“山地和沟壑”，形成栅极，也就是常说的晶体管。便于大家理解，简单来说，光刻机是在一块木头上作了一幅画，而蚀刻机就是根据光刻机的画雕刻出3D的作品。但实际上过程并不是我们形容的那么简单。目前我国中微半导体在蚀刻机方面也是取得了重大成果。
不管是蚀刻区是4米还是长至10米或更长，蚀刻药液必须是连通，且喷淋泵要设计成交叉喷淋，它的作用就是增加的循环量。当然仅是交叉喷淋还是不够的，越长的蚀刻机，还需要单独配置循环泵，其意义就是让每个蚀刻机内的各参数保持一样，我们通常要求每小时至少要有6个循环量来确保药液充分循环，这样每个喷淋泵喷出来的是一样的，那么做出来的产品也就稳定。
