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真空镀膜

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜　　

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法***早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

真空电镀技术优点主要表现在以下几个方面：

　　1、使塑料表面有导电性；

　　2、容易清洗，不吸尘。

　　3、改善美观，表面光滑，工艺品真空电镀，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

　　4、减少吸水率，镀膜次数愈多，***愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；

　　5、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜技术，硬度及耐磨性大大增加；

　　6、可以提高耐候性，一般塑料在室外会老化的非常快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，工艺品真空电镀，铝对紫外线反射***强，所以耐候性大大提高。

真空电镀设备，有时也叫真空镀膜机，安徽真空电镀，是利用金属在电场中阳极端会失去电子变成离子（被镀材料），而在电场作用下射向阴极，并在阴极端（需要镀膜零件）得到电子而还原回金属，并附着在阴极上。

真空镀膜设备对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且***终沉积在基片表面，经历成膜过程，***终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构