真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：
蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备
溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等片置于坩埚前方。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。电气设备包括测量真空和膜层厚度及控制台等。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环，也要求确保在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。蒸发式真空镀膜机常用蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢制作，有水冷却装置。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发系统包括蒸发源和加热蒸发源的电气设备。
真空镀膜机厂家为你介绍真空镀膜技术在手机上的应用
现在基本上每人都配置一部手机了，但使用手机不可避免的会发生辐射。手机辐射会引发、，还能影响少年儿童的生长发育，严重的甚至会引发。如何减轻手机辐射对***健康的影响，已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。
真空镀膜技术，目前可以较好地解决这个难题。它是在原子水平上进行材料生成的技术，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。
真空镀膜技术在手机上的应用，不仅推动了手机制造业的发展，也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽，好的保护了人们的健康。