金属蚀刻网片平滑度差的原因有哪些？要如何解决呢？下面兴之扬不锈钢网片蚀刻加工小编和大家一起来探讨哦！
杂质含量太高；三氯化铁质量差；活化不良；添加剂含量不足；氯离子浓度太高；磷酸离子浓度低；材料晶粒粗大；解决方法：加强活化过程；定期补加添加剂；添加磷酸；更换溶液；更换材料；
兴之扬是一家专注于精密蚀刻加工的深圳厂家，多年来成长为大型精密蚀刻加工厂。拥有6条自动化蚀刻生产线，日产量可达3000㎡；20余年经验工程师，工艺精湛；③弹性模量：当施加力于单位长度棱住的两端能引起物体在长度上的单位变化时，单位面积上所需的力称为弹性模量。进口加工与检测设备，精度高质量稳定；获得ISO9001与ISO14001双证书，同国际化标准接轨，是一家有实力的精密金属蚀刻加工厂家。
不锈钢蚀刻过程中的注意事项：
加工区：不锈钢件的加工区域应相对固定。不锈钢件加工区的平台应采取隔离措施，如铺上橡胶垫等。不锈钢件加工区应避免对不锈钢件的损伤与污染。
下料：不锈钢件的下料采用剪切或等离子切割，锯切等。
机械加工：不锈钢件在车、铣等机械加工时也应注意防护，作业完成时应清洗干净工件表面的油污、铁屑等杂物。
成型加工：在卷板、折弯过程中，应采取有效措施避免造成不锈钢件表面划伤和折痕。
兴之扬316不锈钢网片小编给大家介绍什么是二氧化硅的湿式蚀刻：
在微电子组件制作应用中，二氧化硅的湿式蚀刻通常采用HF溶液加以进行(5)。而二氧化硅可与室温的HF溶液进行反应，但却不会蚀刻硅基材及复晶硅。反应式如下：SiO2 6HF=H2 SiF6 2H2O
由于HF对二氧化硅的蚀刻速率相当高，在制程上很难控制，因此在实际应用上都是使用稀释后的HF溶液，或是添加NH4F作为缓冲剂的混合液，来进行二氧化硅的蚀刻。NH4F的加入可避免氟化物离子的消耗，以保持稳定的蚀刻速率。而无添加缓冲剂HF蚀刻溶液常造成光阻的剥离。典型的缓冲氧化硅蚀刻液(BOE:BufferOxideEtcher)(体积比6:1之NH4F(40%)与HF(49%))对于高温成长氧化层的蚀刻速率约为1000?/min。在电解除油时，不论是钢片作为阳极还是阴极，其表面上都有大量气体析出。
在半导体制程中，二氧化硅的形成方式可分为热氧化及化学气相沉积等方式；而所采用的二氧化硅除了纯二氧化硅外，尚有含有杂质的二氧化硅如BPSG等。然而由于这些以不同方式成长或不同成份的二氧化硅，其组成或是结构并不完全相同，因此HF溶液对于这些二氧化硅的蚀刻速率也会不同。但一般而言，高温热成长的氧化层较以化学气相沉积方式之氧化层蚀刻速率为慢，因其组成结构较为致密。酸性蚀刻制作流程：1、单面板：铜面前处理→印刷线路烘烤→固化酸性蚀刻→去膜2、内层和外层（Tenting流程）：铜面前处理→压膜→爆光→显影→酸性蚀刻→去膜。