企业资质

北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
|
企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:苏经理
手机号码:13146848685
公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
本企业已通过工商资料核验!
企业概况

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

感应耦合等离子体刻蚀机厂家给您好的建议

产品编号:1521672613                    更新时间:2020-05-31
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
  • 公司官网:www.weinaworld.com.cn
  • 公司地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层

联系人名片:

苏经理 13146848685

联系时务必告知是在"产品网"看到的

产品详情







感应耦合等离子体刻蚀机的结构四

真空系统真空系统有两套,分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空,只有在预真空室真空度达到设定值时,才能打开隔离门,进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供,刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

想了解更多关于感应耦合等离子体刻蚀的相关资讯,请持续关注本公司。








等离子刻蚀工艺

等离子体刻蚀分为两个过程:首先,等离子体中产生化学活性组分;其次,这些活性组分与固体材料发生反应,形成挥发性化合物,从表面扩散排走。例如,CF4离解产生的F,与S反应生成SiF4气体,结果是在含Si材料的表面形成了微观铣削结构。等离子体刻蚀是一个通用术语,包括离子刻蚀、溅射刻蚀以及等离子体灰化等过程。

基底和工艺参数决定了表面改性的类型,基底温度、处理时间和材料扩散特性决定了改性深度。等离子体仅能在表面刻蚀几个微米的深度,改性后的表面特性发生了改变,但大部分材料的特性仍能得以保持。这项技术还可以用于表面清洗、固话、粗化、改变亲水性及粘结性等,同样也可以使电子显微镜下观察的样品变薄以及应用于半导体集成电路的制造过程中。在化学溅射中会发生反应并产生挥发性产物。常用的气体包括Ar、He、O2、H2、H2O、CO2、Cl2、F2和有机蒸气等。与存在化学反应的等离子体溅射相比,惰性离子溅射更像是一个物理过程。

想要了解更多感应耦合等离子体刻蚀的相关内容,请及时关注创世威纳网站。







高密度等离子体源在刻蚀工艺上具有许多优势,例如,可以更准确地控制工作尺寸,刻蚀速率更高,更好的材料选择性。高密度等离子体源可以在低压下工作,从而减弱鞘层振荡现象。使用高密度等离子体源刻蚀晶片时,为了使能量和离子通量彼此***,需要采用***射频源对晶圆施加偏压。因为典型的离子能量在几个电子伏特量级,在离子进入负鞘层后,其能量经加速将达到上百电子伏特,并具有高度指向性,从而赋予离子刻蚀的各向异性。

如需了解更多感应耦合等离子体刻蚀的相关内容,欢迎拨打图片上的***电话!








北京创世威纳科技有限公司电话:010-62907051传真:010-62999722联系人:苏经理 13146848685

地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层主营产品:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE

Copyright © 2025 版权所有: 产品网店铺主体:北京创世威纳科技有限公司

免责声明:以上所展示的信息由企业自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责。产品网对此不承担任何保证责任。