净化车间是为了满足半导体制造工艺需求的洁净室，该无尘车间对环境洁净度、温湿度控制等都有一定的要求。相对于其他工业洁净室，集成电路制造无尘车间有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。
根据洁净室车间空气循环特点可以将洁净室分为三种类型：循环空调机配合***送风口系统、循环风机配合湿式密封系统和FFU循环系统。
GMP净化厂房参数：
换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000级≥30次。
压差：主车间对相邻房间≥5Pa
平均风速：10级、100级0.3-0.5m/s；
温度：冬季16℃; 夏季26℃; 波动±2℃。
湿度：45-65%; GMP粉和剂车间湿度在50%左右为宜; 电子车间湿度略高以免产生静电。
噪声：≤65dB(A);
新风补充量：是总送风量的10%-30%;
照度：300LX。
因为灰尘颗粒经常被***用作载体，空气中的灰尘颗粒越多，***接触它们并附着它们的机会就越多。一个单独的***，虽然体积很小，但通常在大气中以菌落的形式存在，它通常与灰尘颗粒共存，为它提供食物和水。空气过滤器对***和病毒有较高的过滤效率，***过滤器的过滤效率接近100%。对于要求不是很高的车间净化，使用次***过滤器或接近次***过滤器介质的***过滤器也可以满足要求。
