1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。
2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。
3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。
5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
蚀刻加工产业，在国外至少有50年的发展，而在中国，***的蚀刻厂发展才是近10年的时间。要想改变中国蚀刻厂整体低端化的现状，
一，需要在设备上更新，需要更精密的蚀刻设备进行加工生产。
二，蚀刻***知识要更新，不可闭门造车，多了解同行的迅速发展状态。
三，坚持以我为主，不断但创新蚀刻技术，研究更深的蚀刻工艺要求。只有这样深圳蚀刻厂的整体运作生产能力才能大幅提高，才能在精密蚀刻加工方面占有一席之地。
现有的***机对基板的主体部分进行***，但是基板的边缘，特别是基板相对的两长边(在光阻涂布的起始端与末端位置)较容易形成光阻残留，从而导致后段部件所需要用到的对位图案被遮住，造成基板报废。
基板由主体***机10进行主体***，然后由传送装置40，例如机械手臂，将基板传送至边缘***装置20，完成边缘***后，再由传送装置40将基板传送至基板输送机构50，由此进入显影装置30。
