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洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
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4、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
A、无尘车间的
洁净度:
LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。
在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。
2.控制无尘车间污染
进入无尘车间须知：
（1）进入无尘车间应穿干净鞋具，不得带油渍、污泥入内；
（2）室内不得吸烟、饮食和饮水；
（3）焊接、切割、凿洞等有尘作业必须加以控制，防止碎屑大范围扩散，每天工作结束时应将垃圾搬出室外倒入规定处；
（4）施工材料堆放整齐；
（5）室内严禁大小便；
（6）有违反以上规定者，应立即取消在无尘车间工作的资格。
在建筑了净化工程的前提下，严格遵循对无尘车间的使用规范，以争取延长车间使用寿命，完成这样的一整间净化工程，你的经费才算是花到点子上了。