




低温等离子废气处理设备
低温等离子技术是在外加电场的作用下,工业酸碱废气处理设备,介质放电产生的大量携能电子轰击污染物分子,一是在产生等离子体的过程中,高频放电所产生的瞬间高能足够打开一些***气体分子的化学能,使之分解为单质原子或无害分子;二是等离子体中包含大量的高能电子、正负离子、激发态粒子和具有强氧化性的自由基,这些活性粒子和部分臭气分子碰撞结合,在电场作用下,使臭气分子处于激发态。当臭气分子获得的能量大于其分子键能的结合能时,臭气分子的化学键断裂,直接分解成单质原子或由单一原子构成得无害气体分子。同时产生的大量·OH、·HO2、·O等活性自由基和氧化性极强的O3,与***气体分子发生化学反应,酸碱废气处理设备,***终生成无害产物。使复杂大分子污染物转变为简单小分子安全物质害的物质,或使******物质转变成***无从而使污染物得以降解去除。
VOCS废气处理设备
活性炭过滤器由箱体和装填在箱体内的吸附单元组成,采用具有高吸附能力的椰壳活性炭作为吸附料,酸碱废气处理设备安装,能够同时处多种混合废气,经济实用型有机废气的净化与治理装置;是一种废气过滤吸附异味的环保设备产品。活性炭吸附设备是具有吸附效率高,起到净化作用,是净化废气的好设备。
活性炭吸附箱里面的活性炭的吸附能力和与水气的接触时间成正比,接触时间越长,过滤后的效果越佳。
半导体废气处理设备
废气介绍:由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高,通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气,因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类:酸性废气、碱性废气、有机废气和***废气。
废气危害:半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放,将造成严重的问题,不仅影响人们的身体健康,恶化大气环境,造成环境污染的公害事件等,耐酸碱废气处理设备,也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。
废气处理设备处理方法:依据这些废气的特性,在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法,针对不同污染物,可采取以下综合处理方法:1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。
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