四、对准（Alignment）
光刻对准技术是***前一个重要步骤作为光刻的三大核心技术之一，一般要求对准精度为***细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ，对准精度要求也越来越高 ，例如针对 45am线宽尺寸 ，对准精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推动 ，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号上分 ，负性光刻胶供应商，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
PR1-1500A1负性光刻胶
6，坚膜
坚膜也叫后烘，负性光刻胶生产厂家，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。
坚膜温度通常情况高于前烘和***后烘烤的温度 100-140度 10-30min
7，显影检验
光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡
小孔、小岛。
NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势： - 优异的分辨率性能 - 快速地显影 - 可以通过调节***能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度 - 耐受温度100℃ - 室温储存保质期长达3 年
***市场
目前，光刻胶单一产品市场规模与海外巨头公司营收规模相比较小，光刻胶仅为大型材料厂商的子业务。但由于光刻胶技术门槛高，负性光刻胶多少钱，就某一光刻胶子行业而言，仅有少数几家供应商有产品供应。
由于光刻胶产品技术要求较高，中国光刻胶市场基本由外资企业占据，国内企业市场份额不足40%，高分辨率的KrF和ArF光刻胶，其核心技术基本被日本和美国企业所垄断，产品也基本出自日本和美国公司，包括陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业、Fujifilm，以及韩国东进等企业。
而细化到半导体用光刻胶市场，国内企业份额不足30%，四川负性光刻胶，与国际水平存在较大差距。超过80%市场份额掌握在日本住友、TOK、美国陶氏、美国futurrex等公司手中，国内公司中，苏州瑞红与北京科华实现了部分品种的国产化，但是整体技术水平较低，仅能进入8英寸集成电路生产线与LED等产线。
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