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溅射镀膜又分为很多种，总体看，pvd真空镀膜，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld

为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，***佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精i确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经

比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法***早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

镀膜制造需要部分耗材

　　1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm，)需要根据机台配置选用

　　2.TIO2颗粒

　　3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ

　　4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm，需要根据机台配置选用

　　5.铜坩埚，需要根据机台配置选用

　　6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm

　　7.电子枪灯丝，需要根据机台配置选用

　　8.离子源，需要根据机台配置选用耗材

　　三，设备日常维修***部件需要根据机台型号选用

　　四，pvd真空镀膜公司，光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样，尺寸可以选择，pvd真空镀膜价格，900mm，1100mm，pvd真空镀膜加工，1300mm，1350mm，