蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物
质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，pvd真空镀膜加工厂，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，pvd真空镀膜报价，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，pvd真空镀膜，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物***相沉积， 简称为PVD。与之对应的化学气相沉积简称为CVD技术。
pvd真空镀膜加工-pvd真空镀膜-泰坦金属制品有限公司由东莞市泰坦金属制品有限公司提供。东莞市泰坦金属制品有限公司（）位于东莞市寮步镇良边胡屋工业区。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前泰坦金属在机械加工中享有良好的声誉。泰坦金属取得商盟认证，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。泰坦金属全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
