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内氧化法是目前工业制备氧化物弥散强化铜合金的方法。内氧化法的关键工艺是供氧的方法和过程控制,即如何使Cu-Al转化为Cu-Al2O。内氧化法目前主要有压埋法(也称包埋法)、雾化法、流动气氛氧化法以及真空内氧化法等。
美国的工艺过程包括Cu-AI合金熔炼、雾化制粉、氧源制备、混粉、内氧化、破碎筛分、包套封装、热挤压成型、冷变形加工。
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弥散铜合金产品牌号及性能
牌号硬度HRB导电率%IACS抗拉强度MPa典型使用条件备注
164-6690480弯电极相当于C15715
274-7685545冲压电极帽相当于C15740
378-8083560冲压电极帽或机加工电极比C15740性能稍高
480-8480610机加工电极相当于C15760
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弥散强化的铜合金是综合性能好的一类铜合金。它是将具有高熔点、高硬度以及良好热稳定性能和化学惰性的陶瓷颗粒(如氧化物、碳化物等)通过原位或非原位的方法加入到铜基合金中形成的一类铜合金材料。与其他强化方式相比,弥散强化的强化粒子在接近铜的熔点的高温下也不发生溶解与粗化,有效地阻碍位错运动与晶界滑移,同时不会明显降低电导率,具有高强高导耐热的特性,扩大了使用铜合金的温度范围。
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