在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。
真空电镀原理：
一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘柱高的压力，大气压为 760 Torr)。其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。
如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄)，面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时，会产生白化的状态。
在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不变色，pvd真空电镀厂，不氧化，不脱落和爆裂，大朗pvd真空电镀，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，pvd真空电镀公司，富有金属光泽，不褪色。耐磨程度高 ，耐刮擦，不易划伤，可电镀材料广泛，与基体结合力强。 D、环保 真空离子镀膜技术——对***和生态环境真正无害，绿色环保。 E、适用性 PVD真空镀膜可镀IPG浅金、IP金色、IP炉内玫瑰金、IP咖啡色、IP铬、IP***、棕色、IP黑、枪色等。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等)，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。 镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%
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