厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，金属真空镀膜厂家，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
为什么真空镀膜的镀铝不导电？因为镀膜总共有三层，外层的UV光油经UV照射后起到固化耐磨绝缘的作用，但是一旦这层膜被***就导电了。
真空镀膜技术是近年发展起来的一项新技术。它的原理是金属固体(如铝线等)在高真空状态下受热气化，再以分子或原子形态沉积在基材表面，从而在镀件表面形成一层薄薄的金属膜。由于金属气化后均匀地分布于镀膜机腔体内，金属真空镀膜加工，所以，通常情况下，镀件表面形成的金属膜十分均匀。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，金属真空镀膜，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
化学组分上的均匀性：
就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，金属真空镀膜厂，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
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