溅射原理
以下是创世威纳为您一起分享的内容，磁控溅射镀膜机厂家，创世威纳***生产磁控溅射镀膜设备机，欢迎新老客户莅临。
1.1 溅射定义
就像往平静的湖水里投入石子会溅起水花一样，用高速离子轰击固体表面使固体中近表面的原子（或分子）从固体表面逸出，这种现象称为溅射现象。
1.2 溅射的基本原理
溅射是指具有足够高能量的粒子轰击固体表面使其中的原子发射出来。早期人们认为这一现象源于靶材的局部加热。但是不久人们发现溅射与蒸发有本质区别，并逐渐认识到溅射是轰击粒子与靶粒子之间动量传递的结果。
磁控溅射原理
溅射过程即为入射离子通过--系列碰撞进行能量和动量交换的过程。
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与Ar原子发生碰撞，电离出大量的Ar离子和电子，电子飞向基片，在此过程中不断和Ar原子碰撞，产生更多的Ar离子和电子。Ar离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
想了解更多关磁控溅射的相关资讯，请持续关注本公司。
磁控溅射镀膜的特点
1、靶材粒子能量高（比热蒸发高出1个数量级），所制备膜层更致密，与石英片结合力更高：
2、一般备有辅助离子源，可以用来清洗石英片，清洗效果好；
3、易于制备熔点高的材料；
4、制备合金膜层，磁控溅射镀膜机，可以保证膜层材料比例与靶材相同；
5、由于装有中和器，也可以用来制备绝缘膜层。
创世威纳本着多年 磁控溅射镀膜机行业经验，磁控溅射镀膜机哪家好，专注 磁控溅射镀膜机研发定制与生产，***的 磁控溅射镀膜机生产设备和技术，磁控溅射镀膜机品牌，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的***电话！！！
磁控溅射镀膜机厂家-创世威纳(在线咨询)-磁控溅射镀膜机由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司（.cn）是从事“磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供高质量的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：苏经理。
