由于选用物***相堆积工艺可大幅度进步刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的一同，也对其运用范畴的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的运用进行了愈加深化的研究。
化学气相堆积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，凭仗气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，首要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。
光学镀膜由薄的分层介质构成的，经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
吸收介质：能够是法向均匀的，也能够是法向不均匀的，实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，因为膜层的成长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时刻效应。
应用多层膜干涉原理的薄膜防伪技术主要有两种：一种是“整膜”的薄膜防伪技术；另一种是“碎膜”防伪技术。整膜和碎膜是指膜的形态而言。整膜是指一般意义上的防伪膜系；碎膜是指对反射式防伪膜系进行破碎，然后将碎片加入油墨中制成防伪油墨，再用这种防伪油墨进行防伪印刷。
防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜转移式或间接镀膜剪贴式。