正确维护***纯水处理设备的重要性解析
在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。实验室超纯水设备基本工艺流程和指标超纯化后处理系统①混床离子交换纯化柱混床离子交换纯化柱由阴离子交换树脂和阳离子交换树脂按比例混合而成。
超纯水设备系统分析与调整
超纯水设备系统的产水率主要依赖主要系统的回收率来保证:自清洗过滤器的回收率为99%,UF系统回收率为90%,一级RO系统回收率为75%,二级RO系统回收率为90%。但是，当原水经过反渗透系统之后，原水按反渗透系统75%的回收率计算的话，浓水已经经过了4倍的浓缩，这时候水质的离子浓度已经远远达到其饱和度，这时候就会结晶析出，生成水垢。但在实际的运行中,受设备状态和工艺用水需求的影响,系统消耗的水量要大于设计水量,回收率没有达到设计的要求。
1、压力表：测量反渗透设备各处水压。
2、浓水调节阀：用于调节RO设备的操作压力、纯水和浓比例、纯水产量。
3、电导率仪：监测反渗透出水的电导率。
4、低压开关：防止RO高压泵空转或在超过极限低压下工作。
5、液位控制器：根据原水水箱以及纯水水箱的液位对反渗透设备自动进行停机或启动的操作。
6、电控系统：含电导率仪等仪器仪表、控制设备，是反渗透设备的控制中心。
