相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，金属真空镀膜加工，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
溅射镀膜
溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，金属真空镀膜厂，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：
(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，金属真空镀膜厂家，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。
(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。
(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。
真空镀膜的方法很多，计有：
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，金属真空镀膜，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
金属真空镀膜厂-泰坦金属制品有限公司-金属真空镀膜由东莞市泰坦金属制品有限公司提供。东莞市泰坦金属制品有限公司（）是广东 东莞 ,机械加工的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在泰坦金属***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创泰坦金属更加美好的未来。
