pvd真空电镀的原理主要是物***相沉积，其是当前国际上广泛应用的***的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。
pvd真空电镀扛氧化，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，镀膜外壳容易清除油漆和***。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，不褪色，不脱落。高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。
真空电镀厂用来促进均匀电流分布的辅助阳极或挡板应能够直接固定在吊架上，或以其他方式安装以确保位置合适且不会随意改变。不论其布置方式如何，都必须根据测试结果在校正后确定其与电镀部件之间的相对位置。吊架和电镀部件之间的干扰通常是由于电镀槽中的过大负荷所致。镀层零件的过度加载会导致镀液不稳定，并且零件之间的镀层厚度无法平衡。同时，不能保证镀液的对流，搅拌和加热绝缘。
设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。
设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
此外，真空电镀设备厂家建议真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。