




技术参数:晶向:lt;100gt;、lt;110gt;、lt;111gt;;晶体结构:赝立方;晶格常数:a=3.792A;生长方法:提拉法;熔点:2080℃ ;密度:6.52g/cm3;莫氏硬度:6.5 Mohs;热膨胀系数:10×10-6/℃;介电常数:25;损耗正切(10GHz):~3×10-4@300K,~0.6×10-4@77K 。抛光情况:单抛或双抛 (lt;110gt; Ralt;15A,lt;100gt;和lt;111gt; Ralt;5A)。LaAlO3晶体是以定化学配比的La2O3和Al2O3为原料,在200℃下用提拉法生长的,然后经标准工艺切割和抛光,制成5×10mm2的LaAlO3晶片,晶向为[001]。

LaAlo3晶体是以一定化学配比的La2O3和A2O3为原料,在2100℃下用提拉法生长的,然后经标准工艺切割和抛光制成5×10m2的 LaAlo3晶片,晶向为[01].无退火的LaAO3晶体呈淡***透明,在氧气氛下退火后呈棕色。
LaAlO3在常温下结构的空间群为R3c,晶格参数为a=0.5357nm和a=60°6′。LaAlO3晶体是以定化学配比的La2O3和Al2O3为原料,在200℃下用提拉法生长的,然后经标准工艺切割和抛光,制成5×10mm2的LaAlO3晶片,晶向为[001]。

铝酸镧(LaAlO3)晶体是以定化学配比的La2O3和Al2O3为原料,在200℃下用提拉法生长的,然后经标准工艺切割和抛光,制成5×10mm2的LaAlO3晶片,晶向为[001]。颜色及外观:依退火状况而不同,由棕***到褐色,抛光基片有自然孪晶畴;化学稳定性:室温下不溶于矿物酸,温度大于150℃时可溶于H3PO4。LaAlO3晶体尺寸(可按照客户需求,定制特殊尺寸)10×10×0.5mm、10×5×0.5mm、5×5×0.5mm、15×15×0.5mm等 dia1″×0.5、dia2″×0.5等。

铝酸镧(LaAlO3)单晶是当前***重要的工业化、大尺寸高温超导薄膜基片单晶材料。它用提拉法生长,可以得到直径2英吋及更大的单晶和基片。铝酸镧(LaAlO3)具有大的禁带宽度(5-6eV),高的介电常数值(~25)和很好的热稳定性使其成为替代Si基1金属-氧化物-半导体场效应晶体管中SiO2的***佳替代材料。
