氢气检漏法的工艺和方法
批量生产的用户采用上述控制器进行示踪气体的充注，达到收到压力后控制器会给出提示，这时操作人员即可进行检漏操作，然后通过控制器把气体排出。注意不可以直接将气体排在检漏位置，因为这样会造成本底污染，使得后面的检漏无法进行。
工程安装维护商可以采用手持式氮氢检漏仪(有带气瓶/表组的套装产品供选择)，在现场需要查找系统漏点时，先排空制冷剂，然后逐段充注5%氢 95%氮的示踪气体，用手持式氮氢检漏仪进行巡检式查漏。由于氢气比空气轻，所以泄漏出来的氢气都会沿着管道等部件往上跑，并且可以穿透保温材料，使用者可以在部件较高位置进行检漏，比采用其他方式查找漏点要容易得多，成功率也高很多。其结构主要由进样系统、离子源、质量分析器、收集放大器、冷阴极电离真空计等组成。
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真空设备检漏
检漏就是用一定的手段将示漏物质加到被检设备或密封装置器壁的一侧，用仪器或某一方法在另一侧怀疑有泄漏的地方检测通过漏孔漏出的示漏物质，从而达到检测的目的。检漏的任务就是在制造、安装、调试过程中，判断漏与不漏、泄漏率的大小，找出漏孔的位置；在运转使用过程中监视系统可能发生的泄漏及其变化。如真空设备（真空镀膜机，液晶注入机，PVD，半导体外延等等），需要在真空条件下工作，要求在工作时，空气不能漏进工作腔体，否则生产不能进行，或者产生次品，浪费人力物力。
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一个真空系统(或容器)要求做到绝dui不漏气是不现实的，也是没有必要的，所以就要根据真空系统实际应用的具体条件，对漏率指标提出合理的要求，只要漏孔的漏率已足够小，使得平衡压强低于真空系统工作所需的压强，这些漏孔就是允许的。真空系统正常工作所能允许的做大漏气量，称da允许漏率，简称允许漏率。所有的氦气检漏仪器机构的离子收集板，对氦气都会产生记忆效应，即氦离子打到离子收集板上，并储存一定时间，然后再慢慢释放出来，从而造成本底的噪音等问题。此值不仅是设计真空系统的一项主要指标，也是检漏的依据。
如果已知允许的总气载，而没有具体指明究竟有多大，那么，在设计合理的前提下。da允许漏率Q漏=0.1Q总，不同真空系统所允许的总漏率也不同。
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