性能氮化硅砖是以Si3N4为主要成分的特殊耐火材料制品
性能
氮化硅砖是以Si3N4为主要成分的特殊耐火材料制品。密度3.19g/cm3。膨胀系数小，为2.53×10-6/℃。1200℃下导热率18.4W/(m·K)。热稳定性好，1200～2000℃热交换上千次不***。抗折强度可达200~700MPa，耐氧化温度1400℃，在还原气氛中可达1870℃。氮化硅制品在窑炉中用过以后，也会出现氧化现象，有些氮化硅砖氧化以后会和碳化硅砖一样，氮化硅氧化变成碳化硅，呈现黑色的碳化硅颗粒，如果氧化的严重的情况下，氮化硅的体积会出现疏松，碳化硅含量下降，体积密度降低，耐压强度也会大大降低。室温电阻率1.1×1014Ω·m。采用硅粉氮化后烧结或热压方法制取。
Si3N4的使用温度一般不超过1300°C
氮化硅的很多性能都归结于此结构。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4 热膨胀系数低、导热率高。热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会。我们回收的废旧氮化硅砖主要用于耐火材料行业，耐火材料行业属于基础工业，是钢铁、有色金属都离不开的行业，贯穿整个工业链，所以耐火材料行业对碳化硅和氮化硅的需求量非常大。在不太高的温度下，Si3N4 具有较高的强度和抗冲击性，但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损，使其强度降低，在1450℃以上更易出现疲劳损坏，所以Si3N4 的使用温度一般不超过1300℃。
Si3N4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料
氮化硅的很多性能都归结于此结构。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4 热膨胀系数低、导热率高。热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会。在不太高的温度下，Si3N4 具有较高的强度和抗冲击性，但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损，使其强度降低，在1450℃以上更易出现疲劳损坏，所以Si3N4 的使用温度一般不超过1300℃。 Si3N4 今后的发展方向是：⑴充分发挥和利用Si3N4 本身所具有的优异特性；特点自身属性1、化学组成：主要成分决定该耐火材料的品质和特点2、体积密度：单位体积重量，密度大，说明致密性好，强度就可能高，但导热系数可能就大3、显气孔率：没做具体要求，但作为生产厂家需要严格控制显气孔。⑵在Si3N4 粉末烧结时，开发一些新的助熔剂，研究和控制现有助熔剂的成分；⑶改善制粉、成型和烧结工艺； ⑷研制Si3N4 与SiC等材料的复合化，以便制取更多的复合材料。它耐高温，强度一直可以维持到1200℃的高温而不下降，受热后不会熔成融体，一直到1900℃才会分解，并有惊人的耐化学腐蚀性能，能耐几乎所有的无机酸和30%以下的溶液，也能耐很多有机酸的腐蚀；同时又是一种电绝缘材料。 废旧氮化硅陶瓷就是经过使用以后，损坏或者破损的氮化硅制品， Si3N4 陶瓷是一种共价键化合物，基本结构单元为[ SiN4 ]四面体，硅原子位于四面体的中间，在其周围有四个氮原子，分别位于四面体的四个顶点，然后以每三个四面体共用一个原子的形式，在三维空间形成连续而又坚固的网络结构。
反应烧结法(RS)是采用一般成型法
反应烧结法（ RS)
是采用一般成型法，先将硅粉压制成所需形状的生坯，放入氮化炉经预氮化（部分氮化）烧结处理，预氮化后的生坯已具有一定的强度，可以进行各种机械加工（如车、刨、铣、钻).。然后，在硅熔点的温度以上；将生坯再一次进行完全氮化烧结，得到尺寸变化很小的产品（即生坯烧结后，收缩率很小，线收缩率< 011% ). 该产品一般不需研磨加工即可使用。反应烧结法适于制造形状复杂，尺寸正常的零件，成本也低，但氮化时间很长。γ相只有在高压及高温下，才能合成得到，它的硬度可达到35GPa。
