真空镀膜机是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。获得价廉物美的塑料件表面装饰的理想设备，任意底色的塑料经车灯镀膜机后皆可镀成金属薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高产品档次、外观更显华贵作用。广泛应用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PVC）、尼龙、陶瓷、树脂、玻璃等材料的玩具、饰物、工艺品、手机壳、电子产品、灯饰配件、化妆包装等行业。
真空镀膜机实验专用设备的主要用途真空镀膜技术分析
真空镀膜机实验专用设备主要用于大专院校、科研单位、实验和研制之用。根据工艺要求研究出不同种类、不同规格、多功能的实验装置，或为某产品需要特研制的专用设备。
本公司从事真空镀膜机设计生产，有着丰富的镀膜技术及设备的设计制造经验。是集设备生产与技术服务于一体的高科技企业。本司提供多种型号多弧，磁控，中频离子真空镀膜机，并可为客户量身订制专用型号真空镀膜机并提供从设备制造、安装调试到生产工艺的一站式服务。本公司生产的系列装搭生产线、系列高低温、燃油、电热烘干箱、系列环保喷台等产品的单位。广泛用于汽配、摩配、鞋业、工艺品、电器、机械等。是电镀、电泳、喷漆、喷塑行业中不可缺少的设备。
磁控溅射镀膜机的工作原理是怎样的？公司拥有一支从事多年表面处理设备设计、并具有实践经验的技术***及优良素质的施工***。为满足技术的不断进步及参与大型电镀工程涂装工种的建设，我公司与***多名有时间经验的工程师及电镀添加剂骨干企业保持着密切技术联系与合作，可以针对客户要求，提供表面处理工艺及设备设计，提供设备的制造、安装、调试及的***服务。
影响镀膜机磁控靶点火电压的因素有哪些
靶材对点火电压的影响
(1)阴极靶材的不同材质，因溅射的能量阀值的不同，一般溅射“逸出功”较小的阴极靶材，其点火电压和工作的电压要低一些，反之则会高一些。(2)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁等)和铁素体靶材，会偏转和减少阴极溅射靶面磁场对磁控靶造成影响。靶面磁场的降低，使磁控靶需要很高的电压才能点火起辉。(3)点火电压与磁控靶靶材溅射面积和真空腔体的机械尺寸大小有关。靶材溅射面积大，或是真空腔体的机械尺寸大，相应充入工作气体的数量值较多，在同一阴-阳极电压下，工作气体例如气电离出导电正离子和电子亦增多，导致点火电压下降(在镀膜时还会造成磁控靶溅射电压一定程度上的降低)。
磁控溅射镀膜靶电源的空载电压
(1)靶电源输出的空载电压主要供磁控靶“点火起辉”用，其峰值电压大体可分为三挡，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大约在5KW以下的靶电源输出空载电压的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶电源其输出的空载电压的峰-峰值Vp-p大约在800~1KV;且电源功率越大,其输出的空载电压越接近偏小值。(3)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁)以及其它铁素体靶材，在选用靶电源输出的空载电压时，须选择靶电源输出空载电压峰-峰值Vp-p范围的偏大数值。