pvd真空镀膜加工-pvd真空镀膜-东莞泰坦金属制品(查看)

　与传统的电镀法相比，真空镀膜技术具有很多的优点，如装饰效果好，金属感强，成本低(约为传统电镀的1／3～1／2)，污染小，易于操作等。特别在非金属物件的应用上，有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此，真空镀膜已被广泛应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化上。

真空镀膜技术在塑料制品的应用上为广泛。塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用，如不美观、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率高等。

基体外表状况对镀层布局的影响

　　真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，即结晶核，pvd真空镀膜报价，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。

相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

　　真空蒸镀

　　其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

　　溅射镀膜

　　溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，pvd真空镀膜厂家，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

　　离子镀膜

　　即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，pvd真空镀膜加工，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，pvd真空镀膜，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。

　　真空卷绕镀膜

　　真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

　　上述四种都属于物***相沉积技术应用(PVD)。

　　接下来是化学气相沉积(CVD)。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

　　束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。