




8、使用氢气前,必须对设备、管道、阀门等连接点***进行认真仔细的检查;并用肥皂水或携带式可燃性气体爆检测仪进行检查,禁止用明火检查。
9、氢气系统设备运行时,严禁敲击、带压紧固和维修,不得超压,禁止处于负压状态。
10、使用新氢气管接头(新事故枪接头)时,必须进行清l脂脱油处理。
11、切割结束,关闭氢气、氧气后,要对割嘴再点火,使氢气管道内余下的氢气充分燃烧完,避免下次点火发生爆l炸或氢气管子发生燃烧l伤人。
12、使用氢氧火焰,阀门操作顺序为:点火时,先开氢气阀,点燃后,开氧气阀;停用时,先关氧气阀,熄灭后,关氢气阀。
13、氢气吹洗臵换、放空降l压,必须通过排放管排放。
14、氢气系统停运后,应有盲板或其他有效隔离措施隔断,应使用符合安全要求的惰性气体进行臵换吹扫,氢气系统内氧或氢含量至少连续2次分析合格。
15、氢气作焊接、切割、燃料和保护气等使用时,每台(组)用氢设备的支管上应设阻火器。
三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。高纯气体对于不同类别的气体,纯度指标不同,例如对于氮,氢,氦而言,通常指纯度等于或高于99。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。