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恒缘钛金与您分享PVD工艺介绍

1：技术介绍

PVD电镀源于工具表面的硬化处理，由于良好的附着力，优异的硬度，和环保的生产方式，到90年代末已经成功用于手表的表面处理，之后也成功推行到手机行业。

PVD属于气相物理沉积，仅用水基清洗剂清洗干净工件表面，即可进入真空炉中，通过对金属靶材的离子轰击和电场效应，使得需要的金属或金属化合物沉积在工件的表面。

2：工艺流程

工件上水洗挂具---清洗—烘干---检验—上真空挂具---炉内电镀-----出炉----下挂---检验---包装

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恒缘钛金与您分享光学薄膜的分类

光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为：反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。

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镀膜的方法及分类

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，保温杯真空uv镀加工厂家，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。