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真空镀膜之磁控溅射镀膜 ：
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，若电子具有足够的能量时， 则电离出离子和另一个电子（二次电子）。电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极 （溅射靶） 并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在基片上形成薄膜， 二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。磁控溅射：原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中***成熟的Zn0:A1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（DC）和射频溅射（IC）两种。
PLD缺点：1、在镀膜过程中，薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低质量，采取一定的措施后也
不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面PLD生长部比较困难，因此进一步提高薄膜的质量会比较困难.
镀膜玻璃的特点
1。热反射玻璃的特点：
通过镀不同薄膜，控制对太阳直接辐射的反射、透过和吸收，达到调节热量传递的目的。热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色，热反射玻璃有以下特点：
1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。在夏季白天太阳直接照射时，与普通透明玻璃相比，可将向室内传递的太阳辐射热减少15%--70%；
2丰富多采的反射色调和佳的装饰效果；
3良好的遮避作用；
4能减弱紫外光的透过。
