企业资质

北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:苏经理
手机号码:13146848685
公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
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企业概况

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

异形工件镀膜设备工作原理多重优惠 北京创世威纳

产品编号:1633011813                    更新时间:2020-07-07
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
  • 公司官网:www.weinaworld.com.cn
  • 公司地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层

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产品详情







离子镀膜机的实际应用

离子镀膜机的应用范围主要可以分为两大类,一类为工具类产品的镀膜,一类为装饰镀膜。对于前者的镀膜,有着延长其使用寿命的作用,对于后者则更多的是表面装饰。

工具类镀膜以刀具为例,在其硬质合金打造的刀身表面进行离子镀膜之后,其表面的硬度和自润滑性会明显得到提升,减少了在切削过程中的粘刀现象,也大幅度提升了刀具的使用寿命。这也是现在很多刀具厂家会采用离子镀膜机的主要原因。

装饰类镀膜实际上是可以包括工具镀膜的,原因在于类似刀具这类产品,在经过镀膜之后不仅性能和使用寿命得到了提升,其表面的光泽度也有了非常明显的变化。特别是金属类产品,在经过离子镀膜机再次加工之后,往往其价值会得到进一步的提升,这就是为其表面美化的主要作用。




真空电镀机操作注意事项

左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。

低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。

当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

真空镀膜机开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。

低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀(阀杆顺时针旋转)。

等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时,开规管灯丝开关。

发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。

左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

旋转发射调节钮“4”,使高压真空表“5”内指针指向5。

发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。

旋转零点调节钮“10”,让高压真空表“5”内指针指向0位置。

发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。

旋转标准调节钮“3”,让高压真空表“5”内指针指向10。

旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12,当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时,再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。




真空电镀机行业发展优势

真空电镀机对环境的要求,一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求,和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗,又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘,在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气,要达到预期的真空度很难的。众所周知,油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体,当大量抽除可凝性气体时,对泵油的污染会更加严重,结果使泵的极限真空下降,***了泵的抽气性能。口巨业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合,而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体,凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准,从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的口巨业部门,也适合于真空对洁净环境的要求。




主要的镀膜溅射方式有哪些?

磁控溅射镀膜设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控镀膜设备主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。

磁控溅射镀膜设备原理解析

主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.

CCZK-SF磁控溅射镀膜设备

而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象.

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们常见的射频是电焊机.溅射过程所用设备的区别就是电源的区别.

以上就是主要的磁控溅射镀膜设备的溅射方式,希望本文能够让用户对设备更加了解。




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