物***相沉积（PVD）
物***相沉积是指在真空条件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术。
物理沉积技术主要包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀三种基本方法。
物***相沉积具有适用的基体材料和膜层材料广泛；工艺简单、省材料、无污染；获得的膜层膜基附着力强、膜层厚度均匀、致密、少等优点。
广泛用于机械、航空航天、电子、光学和轻工业等领域制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、绝缘、光学、磁性、压电、滑润、超导等薄膜。
气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。
根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物***相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类。
电镀是一种电化学和氧化还原的过程。以镀镍为例：将金属制件浸在金属盐（NiSO4）的溶液中作为阴极，金属镍板作为阳极，接通直流电源后再制件上就会沉积出金属镀镍层。
电镀方法分为普通电镀和特种电镀。
气相沉积
化学气相沉积（CVD）
化学气相沉积是指在一定温度下，混合气体与基体表面相互作用而在基体表面形成金属或化合物薄膜的方法。
由于化学气相沉积膜层具有良好的耐磨性、耐蚀性、耐热性及电学、光学等特殊性能，已被广泛用于机械制造、航空航天、交通运输、煤化工等工业领域。
单色、渐变色：抛光/喷砂/拉丝→除油→阳极氧化→中和→染色→封孔→烘干
②抛光/喷砂/拉丝→除油→阳极氧化1 →镭雕→阳极氧化2 →封孔→烘干
技术特点:
1、提升强度,
3、实现无镍封孔，满足欧、美等***对无镍的要求。
技术难点及改善关键点：
阳极氧化的良率水平关系到***终产品的成本，提升氧化良率的***在于适合的氧化剂用量、适合的温度及电流密度，这需要结构件厂商在生产过程中不断探索，寻求突破。
钢铁件也经常做钝化处理，钝化处理也是被作为前处理用。举个例子增加看官的理解：
大家都知道有不锈钢，但是知道不锈铁的恐怕不多，可以百度一下不锈铁。
不锈铁就是不容易生锈的铁，实际上一部分不锈铁，既有不锈性，又有耐酸性（耐蚀性）。不锈铁的不锈性和耐蚀性是由于其表面上富铬氧化膜（钝化膜）的形成（其实不锈铁就是钝化处理的钢铁）。这种不锈性和耐蚀性是相对的。试验表明，铁在大气、水等弱介质中和等氧化性介质中，其耐蚀性随铁中铬含水量的增加而提高，当铬含量达到一定的百分比时，铁的耐蚀性发生突变，即从易生锈到不易生锈，从不耐蚀到耐腐蚀（这段其实就是钝化工艺原理）。
