





离子刻蚀简介
离子刻蚀是利用高能量惰性气体离子轰击被刻蚀物体的表面,达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方法,所以可以得到非常小的特征尺寸和垂直的侧壁形貌。这是一种“通用”的刻蚀方式,可以在任何材料上形成图形。它的弱点是刻蚀速度较低,选择性比较差。传导耦合性等离子体刻蚀的优势在于刻蚀速率高、良好的物理形貌和通过对反应气体的选择,达到针对光刻胶和衬底的高选择比。一般用于对特征形貌没有要求的去胶(ashing,灰化)工艺。反应离子刻蚀是上述两种刻蚀方法相结合的产物,它是利用有化学反应性气体产生具有化学活性的基团和离子。经过电场加速的高能离子轰击被刻蚀材料,使表面受损,提高被刻蚀材料表面活性,加速与活性刻蚀反应基团的反应速度,从而获得较高的刻蚀速度。这种化学和物理反应的相互促进,使得反应离子刻蚀具有上述两种干法刻蚀所没有的优越性:良好的形貌控制能力(各向异性)、较高的选择比、可以接受的刻蚀速率。因此在于法刻蚀工艺中反应性离子刻蚀得到广泛应用。
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离子束刻蚀机
加速1器从离子源获得的离子束的能量一般从几百电子伏到几万电子伏。因为用高引出电压方式获得较高能量的离子束受到击穿的限制,所以必须使离子在电场和磁场中加速,这类装置叫做加1速器(见粒子加1速器)使用各种加1速器可以使离子获得很高的能量(如几百吉电子伏),也可以使离子减速,以获得能量较低的(如几十电子伏)但流强很高的离子束。

离子束分析具有一定能量的离子与物质相互作用会使其发射电子、光子、X射线等,还可能发生弹性散射、非弹性散射以及核反应,产生反弹离子、反冲核、γ射线、氢核、氚核、粒子等核反应产物,可以提供有关该物质的组分、结构和状态等信息。利用这些信息来分析样品统称离子束分析。在离子束分析方法中,比较成熟的有背散射分析X射线荧光分析、核反应分析和沟道效应(见沟道效应和阻塞效应)与其他分析相结合的分析方法等。此外,利用低能离子束还可作表面成分分析,如离子散射谱(ZSS)、次级离子质谱(SZMS)等。超灵敏质谱(质谱)、带电粒子活化分析、离子激发光谱、离子激发俄歇电子谱等正在发展中。用于离子束分析的MV级已有专门的商业化设备。
