真空镀膜设备检漏环节,你都会了吗?
新人来公司报道，前期都要进行严格的真空镀膜设备捡漏培训，后期还要经过公司传帮带的方式来帮助新人快速成长，为什么公司对捡漏培训如此重视和严格，下面小编为大家讲解真空镀膜设备捡漏的重要性：真空镀膜设备检漏是保证真空镀膜设备真空度的一项检查措施，简称检漏，真空度的高低是直接影响到镀膜效果的，如果捡漏有纰漏，必然会造成或大或小的损失，由此得不偿失，所以机器在运作过程中检漏环节是必不可少的。经验丰富的技术人员都知道，捡漏产生的原因一般都是真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的连接位细缝中产生，当抽气系统抽气后使真空室内压强下降，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，造成真空度下降。
真空镀膜设备镀膜过程的均匀性到底多重要?
真空镀膜设备镀膜过程的均匀性到底多重要？ 厚度均匀性主要取决于： 1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率. 对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。 采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
高频磁控溅射设备有什么特点
高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气体和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。 磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
