酸碱废气处理设备安装-商洛酸碱废气处理设备-威邦机械

半导体废气处理设备

废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和***废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。

废气处理设备维护方式

定期维修

　　这是一种以设备运行时间为基础的预防维修方式，具有对设备进行周期性维修的特点。根据设备的磨损规律，事先确定维修类别、维修间隔期、维修内容及技术要求。维修计划按设备的计划开动时数可作较长时间的安排。

　　定期维修方式适用于已充分掌握设备磨损规律和在生产过程中平时难以停机维修的流程生产设备、自动化生产线中的主要生产设备及连续运行的动能生产设备。

对于光，有两个参数：波长与光强。只有吸收了一定波长范围内的光，TiO2催化剂才可以克服其禁带的能量，在其表面会产生电子-空穴。研究结果表明，短波长的紫外光，尤其是在185~254nm，更有利于生成更多的˙OH，化工酸碱废气处理设备，从而加快光催化反应活性。而表示单位时间内、通过单位横截面光能大小的光强，商洛酸碱废气处理设备，直接决定了紫外光所提供的总能量是否足以使周围的TiO2全部参与到反应中来。所以，光催化过程中要保证反应器内布光均匀且紫外光达到一定强度。

对于催化剂，其活性组分主要是TiO2。其颗粒粒径越小，尤其是纳米级，比表面与反应面就越大，电子-空穴的简单复合率就小，酸碱废气处理设备安装，光催化活性也就高；若在TiO2中掺杂金属或非金属粒子，还可拓展其可接受的光照射响应范围；因为锐钛矿型具有强吸附氧气能力，金红石型具有较高的光利用率，二者的混晶型物质在光催化性能方面的表现要比单一晶型物质要好。其它影响光催化活性的因素还包括，孔隙率、平均孔径、表面电荷、焙烧温度、纯度等。

水蒸气也是在光催化反应不可忽视的因素。因为水分子提供了可俘获空穴的羟基，进而产生自由基˙OH，反应中适量的水蒸气有利于反应的进行，但如果水蒸气过多，会在TiO2表面产生竞争吸附，反而不利于光催化的进行。

此外，工业酸碱废气处理设备，废气的初始浓度和在反应器内部的停留时间，也直接影响光催化氧化技术的去除效果。从目前的实验室数据结果看，在各条件优化后的情况下，处理浓度10mg/m3的甲醛尚需30min才能达到70%的去除效率。