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半导体清洗超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）

3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）

半导体清洗超纯水设备应用场合：

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

　　☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

　　☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

　　☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

　　☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

　　☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

　　☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

　　☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

　　☆高品质显像管、萤光粉生产

　　☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

　　☆超纯材料和超纯化学***、超纯化工材料

　　☆实验室和中试车间

　　☆汽车、家电表面抛光处理

☆光电产品、其他高科技精微产品

反渗透技术是当今***和有效的膜分离除盐技术。其原理是在压力的作用下，水分子透过反渗透膜成为纯水，水中的杂质被反渗透膜截留排出。利用反渗透技术可以有效地去除水中的溶解盐、胶体、病毒和大部分有机物等杂质。反渗透设备系统除盐率一般为97－99％。一级反渗透设备出水电导率一般在2～20μS/cm之间。用双级反渗透设备除盐的技术称为两级反渗透技术，印染废水处理厂家，两级反渗透装置可除去原水中99％以上的盐分。

反渗透技术应用范围：

1. 纯净水、蒸馏水、食品和配置饮料用水的净化。

2. 化工、电子、食品、电子等工业中纯水超纯水的制备。

3. 制药、轻纺、化工、食品饮料等工业用于分离、浓缩的制备。

4. 海水、苦咸水的淡化。

一、电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：

　　1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床（复床）→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备，太仓处理厂家，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→（EDI）泵→保安过滤器→紫外线→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点