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脉冲激光沉积系统(PLD)介绍

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PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，激光脉冲沉积设备，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，激光脉冲沉积设备公司，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，激光脉冲沉积设备哪家好，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

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脉冲激光沉积的自动化

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自动化装置：

控制样品温度和旋转

靶台的位置控制

靶台旋转

气体控制

速率及厚度计算（利用QCM输出）

激光束扫描（可选）

激光束屏蔽控制

自动泵抽和充气

差分泵抽结构

RHEED分析（可选）

装载室压强监控（可选）