




光刻胶应用
光刻胶是一种具有光化学敏***的功能性化学材料,是由光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体(活性稀释剂)、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体,其中,树脂约占50%,单体约占35%。它能通过光化学反应改变自身在显影液中的溶解性,通过将光刻胶均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上,利用它的光化学敏***,通过***、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上。
光刻胶常被称为是精细化工行业技术壁垒的材料,是因为微米级乃至纳米级的图形加工对其专用***的要求极高,不仅化学结构特殊,品质要求也很苛刻,所以生产工艺复杂,需要长期的技术积累。
被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是电子制造领域的关键材料之一。下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工,同时在LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用,是微细加工技术的关键性材料。
光刻胶的组成
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树脂( resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质( 如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent),保持光刻胶的液体状态,使之具有良好的流动性;添加剂( Additive ),用以改变光刻胶的某些特性,如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯,一-种天然的橡胶;溶剂是;感光剂是一种经过***后释放出氮气的光敏剂,产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在***区由溶剂引起泡涨;***时光刻胶容易与氮气反应而***交联。
硅片模具加工如何选择光刻胶呢?
注意事项:
①若腐蚀液为碱性,则不宜用正性光刻胶;
②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
③负性胶价格成本低,正性胶较贵;
④工艺方面:负性胶能很好地获得单根线,而正性胶可获得孤立的洞和槽;
⑤健康方面:负性胶为有机溶液处理,不利于环境;正性胶属于水溶液,对健康、环境无害。
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