湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），***制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
旗下武汉离子渗氮研究所自1999年成立以来，即选择了，辉光离子渗氮炉作为主营产品，迄今已生产销售1200多台套各类辉光离子渗氮炉供国内外客户使用。公司是经***科学技术1部认定的“***火炬计划***高新技术企业”、是按高企认定新标准经湖北省高新技术企业认定管理工作协调小组认定的“高新技术企业”；Roth等人用离子捕获原理解释APGD，即当所用工作电压频率高到半个周期内可在极板之间捕获正离子，又不高到使电子也被1捕获时，将在气体间隙中留下空间电荷，它们影响下半个周期放电，使所需放电场强明显降低，有利于产生均匀的APGD。
离子渗碳后工件的硬度、疲劳强度、耐磨性等力学性能比采用传统渗碳方法所得力学性能都高，而且渗碳速度快，特别是对狭小缝隙和小孔能进行均匀的渗碳，渗碳层表面碳含量和渗层深度容易控制，工件不易氧化，表面洁净，耗电量低，无污染。
射频磁控溅射气体放电时，由于射频靶电源输出交变高频正弦电压波形，致使电子碰撞工作气体的几率大为增多，工作气体离化率高，等离子阻抗低，射频磁控溅射膜层沉积速率为二极射频溅射的数倍。辉光放电的特征是电流强度较小（约几毫安），温度不高，故电管内有特殊的亮区和暗区，呈现瑰丽的发光现象。 。??由于阴阳极间电场正负极性来回变化，使电子路径延长，与工作气体碰撞次数增加，故单个磁控靶承载同样功率(其它真空环境条件相同)时，选用双极脉冲中频靶电源比用纯直流靶电源和脉冲直流中频靶电源时，工作气体的离化几率和靶材的沉积速率均要高一些。
辉光放电的主要应用是利用其发光效应（如霓虹灯、日光灯）以及正常辉光放电的稳压效应。 利用辉光放电的正柱区产生激光的特性，制做氦乃激光器。近年来，辉光放电在污水处理、灭菌消毒、聚合物材料表面改性、分析仪器离子源等方面也多有应用。