多源有机无机蒸发镀膜机价格-沈阳鹏程-多源有机无机蒸发镀膜机

钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，多源有机无机蒸发镀膜机价格，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，多源有机无机蒸发镀膜机批发，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。

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ZF300热蒸发镀膜机

ZF300热蒸发镀膜机是专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，多源有机无机蒸发镀膜机报价，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的真空室结构。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。

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ZF500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； ***真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，多源有机无机蒸发镀膜机，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板（１套），磁力拨叉，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

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