




四氟化碳物理性质 :
熔点-183.6℃,
分子式是CF4,
沸点-128.1℃,
液体密度(-130℃)1.613g/cm3,
液体折光率(-173℃)1.515,
固体转变点72.2K,批发高纯四氟化碳,
临界温度-45.67℃,
临界压力3.73MPa,
蒸气压(-150.7℃)13.33kPa
介电常数(25℃,0.5MPa)1.0006
临界密度:7.1dm3/mol
标准摩尔自由能:-929.84 kJ/mol
标准摩尔生成自由能:-887.41 kJ/mol
***性类别:第2.2类不燃气体

四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强,四氟化碳供应商,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。


四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳,为非腐蚀性气体,所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜,铝等金属材料都可以使用。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。由碳与氟反应,或一氧1化碳与氟反应,四氟化碳供应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲1烷与反应,武汉四氟化碳,或四氯1化碳与氟化银反应,或四氯1化碳与氟1化氢反应,都能生成四氟1化碳。


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