因此仍未形成适用的静电潜像。也就是说，二次充电/图像曝光的结果，使得无论是在感光鼓的明区还是暗区，表面电位都已降为零电位，没有形成电位反差。经过图像曝光、二次充电（逆充电）后，在感光鼓的表面形成了表面电位相同、电荷密度不同的潜像，这种潜像是无法用传统的静电显影方式来显影的。喷墨工程机C842服务热线。
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为了把这种电荷密度潜像表面电位起伏的静电潜像，喷墨工程机C842报价，必须对感光鼓表面进行曝光。曝光就是利用曝光灯对感光鼓表面进行、充分、均匀的光照，使感光鼓光导层（）的电阻率下降成为电的良导体。对于明区由于二次充电/图像曝光时就已失去全部电荷，陕西喷墨工程机C842，故曝光对基不发生任何作用，其表面电位不变；对于暗区，由于曝光使得绝缘层下面的光导层变为导体。喷墨工程机C842服务热线。
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