脉冲激光沉积装置厂家-脉冲激光沉积装置-沈阳鹏程真空技术

脉冲激光沉积机制

沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，脉冲激光沉积装置，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及膜的生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。

脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（gt;100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，脉冲激光沉积装置厂家，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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PLD450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

极限真空度：≤6.7×10 Pa　　

***真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

质量流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）