pvd真空镀膜-泰坦金属制品有限公司-pvd真空镀膜加工

我们采用的是纯度在99.99%以上左右的锡或铟及铟锡合金。厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。铟也是一样，pvd真空镀膜，但铟的银白色反光率更胜于锡的外观，pvd真空镀膜厂，因为价格较高，我们采用铟锡合金，这样既能得到不导电膜又能得到更白更亮的反光金属效果！镀铟锡不导电膜都是半透明的，所以我们要求被镀基材为透明或黑色为佳。因为镀铟锡都是在250度就开始溶化，所以蒸发的温度也相对较低，pvd真空镀膜加工厂，这样加热熔化及蒸发的电流和时间相对也较低。

表面有彩虹纹，是过多使用洗涤剂或油引起，洗涤时用温水中性洗涤剂可洗去。

禁止使用含漂白成分以及研磨剂的洗涤液、钢丝球、研磨工具等来清洗，为避免残余洗涤液，腐蚀表面，洗涤结束时要用洁净水冲洗表面。

禁止产品接触强酸强碱的化学物品。

只要我们使用正确的***方法，就能延长产品的使用寿命，保持其洁净、明亮、华丽的气派。

真空镀膜的方法很多，计有：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，pvd真空镀膜加工，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。