安徽万锦厂家(图)、真空电镀工厂、合肥真空电镀

真空电镀工艺的特点：

PVD真空镀膜技术可在产品表面形成金属光泽的外观、颜色均匀一致、耐久的表面，在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下永i久保持良好外观。颜色深韵、光亮、经济，真空电镀工厂，可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境友好无u毒无害，无化学***的风险，合肥真空电镀，具备广泛的生物兼容性。

PVD真空镀膜具有***的附着力：可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落（PVD镀膜具有很高附着力和耐久力）。其它的技术，包括水电镀，喷涂都不能与其相比。可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案、可以使用在内装修或者室外抗i氧化，抗腐蚀的场合中；

真空电镀介绍

真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下i注入亚气，亚气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

真空电镀主要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，真空电镀工厂，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高i档产品的功能性镀层。

真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下i注入亚气，亚气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的。由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。