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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：
1、从沉积粒子能量（中性原子）来看，真空蒸镀为0.1-1eV，溅射为1-10eV，离子镀为0.1-1eV（此外还有高能中性原子）。
2、从沉积速率来看，真空蒸镀为0.1-70μm/min，溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀)，离子镀为0.1-50μm/min。
从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；真空度：真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。离子镀密度大 ，无气孔但膜层缺陷较多，附着性很好，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。
离子镀是真空镀膜工艺”的一项新发展。普通真空镀膜（亦称真空蒸镀）时，工件夹在真空罩内，当高温蒸发源通电加热后，促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。由于温，蒸发料粒子获得一定动能，则沿着视线方向徐徐上升，后附着于工件表面上堆积膜。用这种工艺形成的镀层，与零件表面既无牢固的化学结合，有无扩散连接，附着能很差，有时就像桌面上落的灰尘一样，用手一摸也会擦掉。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别
目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane）为主要成分的镀膜，镀膜硬化后（有些镀膜甚至无法达到完全硬化），成份中含有大量j基团（CH3），实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中，j基团会被紫外线分解，附着在上面的硅元素也随之脱落。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性，根本无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在基片上形成薄膜，二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。
