真空电镀具有附着力
真空电镀采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。真空电镀处理剂是一种特殊的附着力处理剂，提升镀层与底材之间的附着力，解决掉镀层，过不了测试等问题。
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊、工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。需经过产品表面清洁、去静电、喷底漆、烘烤底漆、真空镀膜、喷面漆、烘烤面漆、包装等工艺流程。 真空电镀适用范围较广，如ABS料、PC料的产品。电镀不良可能会产生的问题镀层品质不良的发生多半为电镀条件,电镀设备或电镀药i水的异常,及人为疏忽所致。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵。
铝合金电镀工艺详解
1导电氧化（铬酸盐转化膜）——用于既要防护又要导电的场合。
2 化学氧化——用于一般性防护，加工容易，成本低。
3涂有机防护层（涂漆、喷塑等）——用于设备的外部防护、装饰，通常都在氧化的基础上进行。
其他还有在上表面处理之前***行准备性处理，如抛光（机械、电化学、化学法）、喷砂等，可强化上述表面处理的功能。
在表面处理工艺上，真空电镀成为环保新趋势。更安全、更节能、降低噪声、减少污染排放的特点，与一般电镀不同，真空电镀更加环保，可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。
1、定义
因镀膜机在真空状态下蒸发靶材生成镀层，故将此制程称为真空电镀。
2、原理
其过程是在真空条件下，采用低电压、高电流的方式将蒸源通电加热，靶材在通电受热的情况下分散到工件表面，并以不定形或液态状沉积在工件表面，冷却成膜的过程
3、分类
真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。
一如前述，镀膜在10 –4 Torr左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中的铝遇到残留的气体或者碰着钨丝被加热时产生的气体，发生冲突而冷却，形成的铝粒 (非常小的铝粒子集合体) 会附着于被镀膜件上。此时所形成的镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。①作用与目的:除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%～10%左右,主要是防止水分带入造成槽液***含量不稳定。
如真空度高，而且钨丝的温度亦高时，蒸发铝的运动能量也因此会提高，被镀膜件表面所附着的会是纯铝 (并没有残留气体)，而且密度非常高，镀膜性能因此而得到提升 (包括密着性等)
