整平光亮工艺所谓整平光亮工艺，是继抛光、碱蚀、酸蚀之后推出的一项新的表面前处理工艺，是对碱蚀、酸蚀工艺的深刻改造和变革，它既具有酸蚀铝耗低、去机械纹能力强、起砂快的优点，又具有抛光的亮丽，但却根本杜绝了抛光NOx污染、酸蚀氟化物污染、碱蚀碱渣污染等弊端，是一项颇具前途、具有革命性的新工艺。
(一)工艺流程整平光亮工艺比酸蚀、碱蚀要简单得多，甚至比抛光工艺都简单，主要由下述工序组成：整平光亮→水洗→水洗→氧化。本工艺的核心是整平光亮，整平机械纹、起砂、光亮等均由整平光亮槽完成，整平光亮后即可氧化，省去除油、碱蚀、中和等工序。
工艺规范
1、开槽：整平光亮液(开槽液)
2、生产：温度：95～110℃时间：1～5min
3、添加：当槽液液面不能满足生产要求时，应及时补充添加液。补充添加液时一定要补充到初始液位。添加后，应充分搅拌槽液，然后开始生产。
4、管理：整平光亮槽管理非常简单，及时按比例添加即可，溶解与带出的AL3 可达到平衡，槽液寿命在3年以上。
5、消耗：铝耗比酸蚀低，与抛光相当；整平光亮剂消耗约为200～250Kg/T。
三、工艺对比整平光亮技术是在碱蚀、酸蚀、抛光技术基础上发展起来的，她吸收了前三项技术的优点，同时又避免了其缺点，是-项难得的技术突破。
铝阳极氧化主要的用处：进步零件的耐磨、耐蚀性、耐气候腐蚀。氧化生成的透明膜，能够着色制成各种彩色膜。作为电容器介质膜。进步与有机涂层的分离力，作涂装底层。做电镀、搪瓷的底层。
铝阳极氧化的原理不是很复杂，主要是经过水电解来完成的。当电流经过时, 将发作以下的反响：
在阴极上, 按下列反响放出 H2：2H 2e → H2
在阳极上, 4OH - 4e → 2H2O O2, 析出的氧不只是分子态的氧 (O2), 还包括原子氧(O), 以及离子氧(O-2), 通常在反响中以分子氧表示。
作为阳极的铝被其上析出的氧所氧化, 构成无水的Al2O3膜： 2AI 3[O] = AI2O3 1675.7KJ 应指出, 生成的氧并不是全部与铝作用, 局部以气态的方式析出。铝阳极氧化早就在工业上得到普遍应用。
