真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
3.晶格有序度的均匀性：
这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
主要分类有两个大种类：
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
处理对真空电镀层的质量有何影响吗？
真空镀膜的黏附性比较差，容易脱落电镀的种类很多， 水电镀的膜厚比真空溅镀的厚，水电镀膜厚一般为15~20UM,真空电镀 的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。 真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同，真空电镀的功率，真空等级不同会有颜色的变化。溅镀 溅镀是利用离子轰击靶材，击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。溅镀具有广泛应用的特性，几乎任何材料均可析镀上。真空镀膜主要方法：真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
2、的附着力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。其它的技术，包括电镀，喷涂,电泳都不能与其相比。
3、镀层薄，但具有高度耐磨损，耐刮擦，不易划伤。高硬度，低摩擦系数。不会改变基材本身的外观，比如镜面，拉砂纹，蚀刻纹，花纹，CD纹等不会覆盖。
4、可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。
5、pvd真空电镀加工层可镀材料广泛，与基体结合力强。
6、经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
7、真空离子镀膜技术——对***和生态环境真正无害。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1。可替代大部分传统化学电镀技术，对环境无害，避免化学，可以使用在内装修或者室外，膜层具有生物相容性，可广泛应用于手表，首饰，手机配件等与皮肤直接接触的产品表面，特别是钛合金涂层，还可应用于生物产品上
8、用途广泛，现在主要应用于航空航天，耐高温，高压，抗磨损零件，刀具模具，日用五金，3C电子配件，建筑装饰，电工电子，***等。
